巖征儀器 微量光化學高壓反應釜裝置包含：光源設備,、光化學反應釜、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成,。用于新能源及環(huán)境領域的高溫高壓光化學催化,、合成、降解等反應,。如：光解水制氫,，光催化還原二氧化碳制甲醇，光解水,，二氧化碳還原制甲烷,、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等,。特別適用少量樣品的反應,，是昂貴或低產量樣品光催化，降解,，還原的理想反應裝置,。

巖征儀器 微量光化學高壓反應釜*技術特點：

1、光源可按照客戶要求選擇,，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器,，光源光電參數及光化學反應的溫度，攪拌等參數實時數字顯示在屏幕上，國內*,。

2,、更高的使用壓力及溫度設計，普通廠家提供壓力：3mpa,，溫度為200℃的設計，巖征公司提供設計壓力于普通廠家4倍的安全壓力釜體設計,。

3,、更專業(yè)的光化學釜體設計：釜體包含壓力表、防爆裝置,、進氣閥門,、取樣閥門，溫度測溫探桿,，耐壓透光視窗6大齊全部件,，全方面監(jiān)控及采集您所需要的技術參數。

4,、采用頂入式光源設計,，特制防霧雙層JGS2光學級透光視窗，可特別選用藍寶石視窗,。

5,、嵌入式一體加熱模塊結構，加熱更均勻,。釜體,、加熱器可*分離。極大的方便了反應釜的拆卸工作,，提高工作效率,。

6、更全面的光化學反應釜的材質選擇,，除了提供普通廠家提供的SU316L材質的釜體外,，還提供不銹鋼內襯teflon，鈦材,，鎳材,，哈氏合金等非標材質釜體的定做。

巖征儀器 微量光化學高壓反應釜型號為：YZ-GHX-HP系列,，對應容積分別有10ml,25ml,，50ml,100ml，250ml,500ml六款可選,。

巖征儀器 微量光化學高壓反應釜技術參數表：